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                                        一張圖看懂GaN功率管的結構及工作原理

                                        發布時間:2019-03-06 責任編輯:xueqi

                                        【導讀】這里的一張圖就能讓大家搞清楚GaN功率管的結構及工作原理,常關型GaN功率管通常稱為增強型GaN功率管,設計增強型GaN功率管有四種方法。
                                         
                                         
                                         
                                        1、GaN和AlGaN材料特性不同,GaN和AlGaN構成的異質結的表面形成應力,由于晶體產生的壓電效應,在GaN表層內部靠近結的一個薄層區域產生電子聚集,從而形成導電層,這個薄層的導電區域就是所謂的二維電子氣2-DEG,如圖中紅色虛線和紅色圖例所示。
                                         
                                        2-DEG:Two Dimensional Electron Gas
                                         
                                        2、GaN和AlGaN異質結內在的產生導電的二維電子氣,常開型GaN器件通常稱為耗盡型GaN功率晶體管,必須在Gate加上反壓,才能將Gate下面AlGaN層中的二維電子氣去除,從而將器件關斷。這種常開型器件在應用中會產生許多問題,因此不太適合實際的應用。
                                         
                                        耗盡:Depletion
                                        金屬絕緣半導體:Metal Insulated Semiconductor
                                         
                                        3、常關型GaN功率管通常稱為增強型GaN功率管,設計增強型GaN功率管有四種方法:
                                         
                                        (1)Gate在AlGaN層中凹陷下移
                                         
                                        當Gate在AlGaN層中下移,Gate下方AlGaN層變薄,結應力減小,當其尺寸減小到一定值,就可以去除Gate下方GaN層中的二維電子氣。Gate加正向電壓,電子被吸引到其下方,Gate電壓大于一定值時,就可以恢復Gate下方GaN層中的二維電子氣,從而開始導電。
                                         
                                        (2)Gate下方AlGaN層中注入氟原子
                                         
                                        AlGaN層中的氟原子可以捕獲電子,從而去除Gate下方GaN層中的二維電子氣。
                                         
                                        (3)使用P型Gate
                                         
                                        P型Gate產生正電荷,從而去除Gate下方GaN層中的二維電子氣,這也是目前商業化產品常用一種方法。
                                         
                                        (4)使用級連的結構
                                         
                                        將一個MOSFET和GaN串聯級連,從而形成常關型器件,早期GaN采用這種結構,現在越來越少使用。
                                         
                                        4、襯底Substrate主要是Si、SiC或其它材料。
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